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热蒸发源:多个
电子束蒸发源:多坩埚
高真空系统:低温泵+干泵,真空度<10-7 Torr
样品台:可接纳4个6英寸衬底
膜厚检测系统:多个晶振检测探头
沉积速率分辨率:0.01A/s
离子束辅助沉积
光学监控系统:多个探头、多波段。
监控范围:220nm-2200nm
高精度镀膜
电脑控制:全自动软件