产品型号

HVMSS-SPC-1-LD

产品简介

HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头，可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源㊣　相匹配，以至于可以溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的结构设计，可提高镀膜质量。

特点

l  采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作

l  采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均强场分布

l  磁体表面涂有一层保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用寿命

l  标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配

l  安装是采用标准真空接头，便于操作

l  更换靶材较为△简单，无需调整溅射头△的高度

l  配有一块铜靶

溅射头

l  溅射头的直径:46.3mm

l  所用靶的直径:1.0 ± 0.02"(25.4mm)

l  靶材的最大厚度: 1/8" (3mm) 

l  磁环:NdFeB稀土永磁铁      

l  杆的直径:      3/4" O.D.

所需功率

DC (最大) 250 W

RF （最大）100 W

最大阴极溅◣射电流

3A

阴极溅射电流

200 - 1,000 V

可选压力范围

~1 mTorr 至1 Torr

溅射厚度均匀性图

l  

l  注意：此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜，所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上，实验参数为：

l  功率：直流150W

l  真空环境：10mTorr(Ar)

l  靶材与基片的距离：75mm

水冷却

l  所需水流量： 1/2 GPM

l  进水温度：<20 C

l  水管接头：0.25" O.D快插头

接头

l  电路连接接头：标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配

l  本公司会赠①送一高真空快速接头

l  此快速接头的内径为0.75"，可将溅射头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装孔直径为1英寸，真空腔体的壁厚不得大于1英寸

产品长度

14英寸（355.6mm)

产品重量

1.36kg

倾斜装置

l  溅射头相对于杆最大可倾斜+/- 45度

l  倾斜装置上有刻度线，可观察到靶头倾斜的角度

可选配件

l  循环水冷机∴→，流量为16L / min ，水箱容积为6L

l  本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套，让客户自己搭建磁控溅射仪

质保期

一♀年质保期终生维护

应用

在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜，下面是一些应用：

l  薄膜涂覆/半导体器件/磁记录▓介质/超导薄膜

l  量子计算【器件/MEMS/生物传感器/纳米技术

l  超晶格/颗粒膜/记忆合金/组合薄膜沉积/光学薄膜