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产品简介 |
VTC-2RF是一╲款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手 |
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输入电源 |
220VAC 50/60Hz； 单相800W (包括真空泵） |
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等离子源 |
一个300W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内 |
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磁控溅射头 |
l 一个 2英寸磁控↑溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接 l 靶材尺寸: 直径为50mm,最大厚度6.35mm l 一个快速挡板安装在法兰上。 l 溅射头所需冷ζ却水：流速10ml/min（仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机） l 同⌒时可选配1英寸溅射头 |
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真空腔体 |
l 真空腔体：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用⌒高纯石英制作 l 密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈制作 l 一个不锈钢网∞罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体 l 真空度：10-3 Torr （采用双极旋片真空泵）； 10-5 torr （采涡旋分子泵） |
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载样台 |
l 载样台ω 可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热 l 载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片） l 旋转速度：1 - 10 rpm l 样品的最高加热温度为700℃，控温精度+/- 1.0℃ |
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真空泵 |
可选用直联式双极旋片泵,也可选用德国制作的分子泵系统 |
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薄膜』测厚仪 |
l 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监控薄膜的厚度，分辨率为0.10A l LED显示屏显①示，同时也输入所制作薄膜的⊙相关数据 |
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质保和质量认证 |
l 一年质保期，终生维护 l CE认证 |
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使用注意事项 |
l 这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于※在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度 l 为了较好地排∞出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95 %N2对︾真空腔体清洗2-3次，可将真空腔体中的氧※含量减少到10PPM l 请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建议将钢◣瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内 |
