|
产品型号 |
VTC-600-2HD |
|
产品简介 |
VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪，其中一个靶头采用直流（DC）溅射，可溅射金属靶材制备金属膜，另一》个采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧化物靶材，制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜，如铁电、导电，合金，半导体，陶瓷，介电，光学，氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便，是一套理想的实验工具。 |
|
结构 |
 (点击图片查看详情)
|
|
输入电源 |
220VAC 50/60Hz, 单； 2000W (包括泵) |
|
溅射电源 |
l 安装有两○个溅射电源 l 直流（DC）电源：500W，针◢对于制作金属膜 l 射频（RF）电源：600W，可制作氧化物和金属膜 l 同时可选配300W的射频↓电源 |
|
磁控溅射头 |
l 仪器中安装有2个磁控溅╳射头，而且都带☆有水冷夹层，可通入冷却水对靶材降温 l 其中一个溅射头与射频电源相连接，主要是溅射绝缘性ξ靶材 l 另一个溅射√头与直流电源相连接，主要溅射导电性ζ靶材 l 靶材尺寸要求：金属靶：直径为50mm,最大厚度1.5mm l 陶瓷靶：直径为50mm,最大厚度6mm l 仪器中标配一个不锈钢靶和氧化铝陶瓷靶 l 溅射头所需冷却水：流速10ml/min（仪ω器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机）也可以根据♂自己的要求选择2个射频溅射头※或3个射频溅射头，订购前需于本公司销售♂人员联系 |
|
真空腔体 |
l 真空腔体：300 mm Dia x 300 mm h，采用不锈钢制作 l 观察窗口： 100 mm diameter l 腔体打开方式采用上顶开，使得换靶更加容易 |
|
载样台 |
l 载样台尺寸：140mm dia.（最大可放置4"的基底） l 载样台★可以旋转，其速度为：1 - 20 rpm （可调） l 载样台最高可加热温度为500℃，控温精度为+/- 1.0 °C |
|
气体流量控制器 |
l 仪器内部安装有2个质量流■量计 l 量程为：0-200sccm l 气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作 |
|
真空泵系统 |
配有一套分子泵系统（德国制作），采用一键式操作 |
|
薄膜测厚仪 |
l 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装〓在仪器上，可实时监测薄①膜的厚度，分辨率为0.10 ? l LED显示↙屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据 |
|
外形尺寸 |
L1300mm× W660mm× H1200mm |
|
重量 |
160 kg |
|
质保期 |
一年质保期，终生维护 |
