1.配1只磁控靶,预留1对蒸发电极,溅射/蒸发两用!
2.设备占地面积小,价格便宜,使用维护成本低!科研/教学设备!
镀膜方式 | 磁控溅射镀膜+蒸发镀膜(选配) |
真空腔室尺寸 | Φ200×H300mm |
真空腔室结构 | 立式上开盖结构,下置抽气系统,手动气弹簧提开式 |
真空系统 | 分子泵+直联旋片泵准无油真空系统 |
极限真空 | 优于5.0×10-5Pa(如需更高真空度可配进口真空泵组) |
基片台尺寸 | Φ100mm |
基片烘烤温度 | 室温~400℃,可调可控(PID控温) |
基片运动方式 | 自转,转速0-20转/分,可调可控 |
膜厚ω 不均匀性 | ±(1.5~5.0)% |
溅射靶/蒸发电极 | Φ2英寸靶1支,预留1组蒸发接口 |
电源 | 直流/中频/射频电源;数量1台 |
报警及保护系统 | 对泵、靶、电极等缺※水,过流过压,断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;完善的逻辑程序互锁保护系统 |
选购件 |
蒸发电极+蒸发电源、负偏压【电源、循环水机、膜厚控制系 |