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1200℃低真空CVD系统是由滑动式管式实验电炉,混气系统,真空及压力系统等组成。此系统烧结温度可达1200℃,通过滑动炉体来实现快速的升降温;配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通过三路高精度质量流量计控制不同ω 气体。是为石墨烯生长、研发的专用炉,也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。